濺射鉬靶材因其本身優(yōu)點(diǎn)，已經(jīng)在電子行業(yè)、太陽(yáng)能電池、玻璃鍍膜等方面得到了廣泛的使用。隨著現(xiàn)代科技微型化、集成化、數(shù)字化、智能化的快速發(fā)展，鉬靶材的用量將持續(xù)增長(zhǎng)，對(duì)其質(zhì)量要求也必將越來(lái)越高。所以就需要想辦法提高鉬靶材利用率，現(xiàn)在小編為大家介紹幾種提高濺射鉬靶材的利用率的方法。

01反面加電磁線圈

想提高濺射鉬靶材的利用率，可以在平面的磁控濺射鉬靶材的反面加上一圈電磁線圈，經(jīng)過(guò)增加電磁線圈的電流來(lái)增大鉬靶材外表的磁場(chǎng)，以提高鉬靶材的利用率。

02選用管狀旋轉(zhuǎn)靶材

與平面靶材相比，選用管狀旋轉(zhuǎn)靶材結(jié)構(gòu)就凸顯出它的實(shí)質(zhì)性優(yōu)勢(shì)，一般平面靶材的利用率僅為30%~50%，而管狀旋轉(zhuǎn)靶材的利用率則可以達(dá)到80％之上。不僅如此，使用旋轉(zhuǎn)空心圓管磁控濺射靶時(shí)，由于靶材可繞固定的條狀磁鐵組件一直旋轉(zhuǎn)，所以在它的外表不會(huì)產(chǎn)生重沉積現(xiàn)象，所以一般旋轉(zhuǎn)靶的壽命要比平面靶材高5倍不止。

03更換新式濺射設(shè)備

提高靶材利用率的關(guān)鍵在于完成濺射設(shè)備的更新?lián)Q代。鉬濺射靶材在濺射進(jìn)程中靶材原子被氫離子撞擊出來(lái)后，約六分之一的濺射原子會(huì)淀積到真空室內(nèi)壁或支架上，增加清潔真空設(shè)備的費(fèi)用及停機(jī)時(shí)間。所以更換新式濺射設(shè)備也有助于提高濺射鉬靶材的利用率。